ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ПРОЦЕСС ФОТОЛИТОГРАФИИ. РЕЗИСТЫ
Ключевые слова:
фотолитография, адгезия, планарная технология, светочувствительность, кислостойкость
Аннотация
В статье описываются основные стадии технологического процесса фотолитографии. Представлено описание планарной технологии. Рассмотрены фоторезисты и исследована их роль в технологическом процессе фотолитографии. Описаны основные критерии применимости фоторезистов. Рассмотрено влияние светочувствительности, кислостойкости и адгезии фоторезистов на качество процесса фотолитографии.
